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聚焦刻蚀、CMP、清洗、硅片、靶材、前驱体和光刻胶,跟踪半导体设备材料的国产替代和放量节奏。 这是我们四大领域专题体系中的持续跟踪方向,会持续整合研报、公告、资讯与主题证据。
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《科创板日报》19日讯,有研硅(688432.SH)公告称,公司拟设立全资子公司“国晶半导体材料(包头)有限公司”…
午后光刻胶概念异动拉升,容大感光涨超10%,此前国风新材涨停,南大光电、锦华新材、高盟新材、彤程新材、兴业股份等快…
据中微公司消息,在SEMICON China 2026期间,其宣布推出四款覆盖硅基及化合物半导体关键工艺的新产品,…
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